Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Jednoduchý faktor kvality pro charakterizaci tenkých vrstev křemíku]

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F08%3A00320321" target="_blank" >RIV/68378271:_____/08:00320321 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/68378271:_____/08:00341936

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    A simple quality factor for characterization of thin silicon films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Silicon thin films were grown by plasma enhanced chemical vapor deposition at high-pressure (700 Pa), high-power (4? W/cm2) depletion regime using multi-hole cathode. Series of samples were deposited by varying hydrogen/silane ratio or plasma power to study evolution of film structure and transport properties near a-Si:H/?c-Si:H transition. We suggest a simple "?c-Si:H layer quality factor" based on the ratio of subgap optical absorption ? (1.4 eV)/? (1 eV) measured by constant photocurrent method. Thisratio correlates well with the values of ambipolar diffusion lengths measured by surface photovoltage method perpendicularly to the substrate, i.e., in the direction of the collection of the photogenerated carriers in solar cells.

  • Název v anglickém jazyce

    A simple quality factor for characterization of thin silicon films

  • Popis výsledku anglicky

    Silicon thin films were grown by plasma enhanced chemical vapor deposition at high-pressure (700 Pa), high-power (4? W/cm2) depletion regime using multi-hole cathode. Series of samples were deposited by varying hydrogen/silane ratio or plasma power to study evolution of film structure and transport properties near a-Si:H/?c-Si:H transition. We suggest a simple "?c-Si:H layer quality factor" based on the ratio of subgap optical absorption ? (1.4 eV)/? (1 eV) measured by constant photocurrent method. Thisratio correlates well with the values of ambipolar diffusion lengths measured by surface photovoltage method perpendicularly to the substrate, i.e., in the direction of the collection of the photogenerated carriers in solar cells.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2008

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Journal of Non-Crystalline Solids

  • ISSN

    0022-3093

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    354

  • Číslo periodika v rámci svazku

    19-25

  • Stát vydavatele periodika

    NL - Nizozemsko

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

    000256500400036

  • EID výsledku v databázi Scopus