EPR study of the nitrogen containing defect center created in selfassembled 6H SiC nanostructure
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F13%3A00396199" target="_blank" >RIV/68378271:_____/13:00396199 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/MSF.740-742.389" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/MSF.740-742.389</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/MSF.740-742.389" target="_blank" >10.4028/www.scientific.net/MSF.740-742.389</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
EPR study of the nitrogen containing defect center created in selfassembled 6H SiC nanostructure
Popis výsledku v původním jazyce
Triplet center with spin state S = 1 is detected in the EPR spectrum of the self-assembled 6H SiC nanostructure obtained by non-equilibrium boron diffusion into the n-type 6H SiC epitaxial layer (EL) under conditions of the controlled injection of the silicon vacancies at the temperature of T = 9000C. From the analysis of the angular dependences of the EPR spectrum and the numerical diagonalization of the spin Hamiltonian, the value of the zero-field splitting constant D and g-factor are found to be D =114010-4 cm-1 and g|| = 1.9700, g(perpendicular to) = 1.9964. Based on the hyperfine (hf) structure of the defect originating from the hf interaction with one 14N nuclei, the large value of the zero-field splitting constant D and technological conditions of the boron diffusion into the n-type 6H SiC EL, the triplet center is tentatively assigned to the defect center consisting of nitrogen atom and silicon vacancy.
Název v anglickém jazyce
EPR study of the nitrogen containing defect center created in selfassembled 6H SiC nanostructure
Popis výsledku anglicky
Triplet center with spin state S = 1 is detected in the EPR spectrum of the self-assembled 6H SiC nanostructure obtained by non-equilibrium boron diffusion into the n-type 6H SiC epitaxial layer (EL) under conditions of the controlled injection of the silicon vacancies at the temperature of T = 9000C. From the analysis of the angular dependences of the EPR spectrum and the numerical diagonalization of the spin Hamiltonian, the value of the zero-field splitting constant D and g-factor are found to be D =114010-4 cm-1 and g|| = 1.9700, g(perpendicular to) = 1.9964. Based on the hyperfine (hf) structure of the defect originating from the hf interaction with one 14N nuclei, the large value of the zero-field splitting constant D and technological conditions of the boron diffusion into the n-type 6H SiC EL, the triplet center is tentatively assigned to the defect center consisting of nitrogen atom and silicon vacancy.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2013
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Silicon Carbide and Related Materials 2012
ISBN
—
ISSN
0255-5476
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
389-392
Název nakladatele
Trans Tech Publications Ltd
Místo vydání
Zurich
Místo konání akce
St Petersburg
Datum konání akce
2. 9. 2012
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
000319785500091