Mass spectrometric characterizations of ions generated in RF magnetron discharges during sputtering of silver in Ne, Ar, Kr and Xe gases

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F13%3A00397579" target="_blank" >RIV/68378271:_____/13:00397579 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201200145" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201200145</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201200145" target="_blank" >10.1002/ppap.201200145</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Mass spectrometric characterizations of ions generated in RF magnetron discharges during sputtering of silver in Ne, Ar, Kr and Xe gases

Popis výsledku v původním jazyce

The article reports mass spectrometric characterizations of ions generated in RF magnetron discharges generated using silver targets and Ne, Ar, Kr and Xe gases. Both the amount of ions and ion energies in magnetron discharges were investigated. The following ions X+, Ag+, (XAg)+, X2+, Ag2+, X++ and Ag++ were found in the RF discharges; here X=Ne, Ar, Kr, Xe is the inert gas atom and Ag is the silver atom. The amount of individual ions, their energies and ion energy distribution (IED) functions as a function of sputtering gas pressure were measured. It is shown that the sputtering gas pressure strongly influences the generation of ions, their amount and energy in the RF magnetron discharges. The knowledge of the energies and amounts of individual ionsis of a key importance in the deposition of thin films with controlled properties using RF magnetron discharges.

Název v anglickém jazyce

Mass spectrometric characterizations of ions generated in RF magnetron discharges during sputtering of silver in Ne, Ar, Kr and Xe gases

Popis výsledku anglicky

The article reports mass spectrometric characterizations of ions generated in RF magnetron discharges generated using silver targets and Ne, Ar, Kr and Xe gases. Both the amount of ions and ion energies in magnetron discharges were investigated. The following ions X+, Ag+, (XAg)+, X2+, Ag2+, X++ and Ag++ were found in the RF discharges; here X=Ne, Ar, Kr, Xe is the inert gas atom and Ag is the silver atom. The amount of individual ions, their energies and ion energy distribution (IED) functions as a function of sputtering gas pressure were measured. It is shown that the sputtering gas pressure strongly influences the generation of ions, their amount and energy in the RF magnetron discharges. The knowledge of the energies and amounts of individual ionsis of a key importance in the deposition of thin films with controlled properties using RF magnetron discharges.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2013

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Plasma Processes and Polymers

ISSN

1612-8850

e-ISSN

—

Svazek periodika

10

Číslo periodika v rámci svazku

7

Stát vydavatele periodika

DE - Spolková republika Německo

Počet stran výsledku

10

Strana od-do

593-602

Kód UT WoS článku

000322371700002

EID výsledku v databázi Scopus

—