Deposition of hematite Fe2O3 thin film by DC pulsed magnetron and DC pulsed hollow cathode sputtering system

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F13%3A00423298" target="_blank" >RIV/68378271:_____/13:00423298 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2013.09.031" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2013.09.031</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2013.09.031" target="_blank" >10.1016/j.tsf.2013.09.031</a>

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Deposition of hematite Fe2O3 thin film by DC pulsed magnetron and DC pulsed hollow cathode sputtering system
Popis výsledku v původním jazyce
Semiconducting hematite Fe2O3 thin films were fabricated by means of reactive sputtering in a high power DC pulsed magnetron (HIPIMS) and in a DC pulsed hollow cathode plasma jet sputtering system. Fused silica slides (quartz) were used as substrates.
Název v anglickém jazyce
Deposition of hematite Fe2O3 thin film by DC pulsed magnetron and DC pulsed hollow cathode sputtering system
Popis výsledku anglicky
Semiconducting hematite Fe2O3 thin films were fabricated by means of reactive sputtering in a high power DC pulsed magnetron (HIPIMS) and in a DC pulsed hollow cathode plasma jet sputtering system. Fused silica slides (quartz) were used as substrates.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—

Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění
2013
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)