Atomic scale analysis of the GaP/Si(100) heterointerface by in situ reflection anisotropy spectroscopy and ab initio density functional theory
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F14%3A00440096" target="_blank" >RIV/68378271:_____/14:00440096 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevB.90.235301" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevB.90.235301</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevB.90.235301" target="_blank" >10.1103/PhysRevB.90.235301</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Atomic scale analysis of the GaP/Si(100) heterointerface by in situ reflection anisotropy spectroscopy and ab initio density functional theory
Popis výsledku v původním jazyce
Energetically and kinetically driven Si(100) step formations result in majority domains of monohydride-terminated Si dimers oriented either parallel or perpendicular to the step edges. Here, the intentional variation of the Si(100) surface reconstructioncontrols the sublattice orientation of the heteroepitaxial GaP film, as observed by in situ reflection anisotropy spectroscopy (RAS) in chemical vapor ambient. Ab initio density functional calculations of both abrupt and compensated interfaces are carried out. The energetically most favorable interface is compensated with an intermixed interfacial layer. In situ RAS reveals that the GaP sublattice orientation depends on the P chemical potential during nucleation, which agrees with a kinetically limitedformation of abrupt interfaces.
Název v anglickém jazyce
Atomic scale analysis of the GaP/Si(100) heterointerface by in situ reflection anisotropy spectroscopy and ab initio density functional theory
Popis výsledku anglicky
Energetically and kinetically driven Si(100) step formations result in majority domains of monohydride-terminated Si dimers oriented either parallel or perpendicular to the step edges. Here, the intentional variation of the Si(100) surface reconstructioncontrols the sublattice orientation of the heteroepitaxial GaP film, as observed by in situ reflection anisotropy spectroscopy (RAS) in chemical vapor ambient. Ab initio density functional calculations of both abrupt and compensated interfaces are carried out. The energetically most favorable interface is compensated with an intermixed interfacial layer. In situ RAS reveals that the GaP sublattice orientation depends on the P chemical potential during nucleation, which agrees with a kinetically limitedformation of abrupt interfaces.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2014
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Physical Review. B
ISSN
1098-0121
e-ISSN
—
Svazek periodika
90
Číslo periodika v rámci svazku
23
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
7
Strana od-do
"235301-1"-"235301-7"
Kód UT WoS článku
000346390100006
EID výsledku v databázi Scopus
—