GaP-on-Si heterointerfaces and quasisubstrate growth studied in situ during MOVPE

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F16%3A00471296" target="_blank" >RIV/68378271:_____/16:00471296 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

GaP-on-Si heterointerfaces and quasisubstrate growth studied in situ during MOVPE

Popis výsledku v původním jazyce

It was demonstrated how time-resolved RAS measurements enable to in situ monitor the GaP nucleation on Si. The GaP sublattice can be inverted by a 'rotation' of the Si dimers prior nucleation or more Ga-rich growth conditions. The impact of As on Si surface as well as GaP nucleation on top of this surface were investigated.

Název v anglickém jazyce

GaP-on-Si heterointerfaces and quasisubstrate growth studied in situ during MOVPE

Popis výsledku anglicky

It was demonstrated how time-resolved RAS measurements enable to in situ monitor the GaP nucleation on Si. The GaP sublattice can be inverted by a 'rotation' of the Si dimers prior nucleation or more Ga-rich growth conditions. The impact of As on Si surface as well as GaP nucleation on top of this surface were investigated.

Druh

O - Ostatní výsledky

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2016

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů