Thin-film limit formalism applied to surface defect absorption
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F14%3A00440228" target="_blank" >RIV/68378271:_____/14:00440228 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/68407700:21230/14:00225012
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1364/OE.22.031466" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1364/OE.22.031466</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1364/OE.22.031466" target="_blank" >10.1364/OE.22.031466</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Thin-film limit formalism applied to surface defect absorption
Popis výsledku v původním jazyce
The thin-film limit is derived by a nonconventional approach and equations for transmittance, reflectance and absorptance are presented in highly versatile and accurate form. In the thin-film limit the optical properties do not depend on the absorption coefficient, thickness and refractive index individually, but only on their product. We show that this formalism is applicable to the problem of ultrathin defective layer e.g. on a top of a layer of amorphous silicon. We develop a new method of direct evaluation of the surface defective layer and the bulk defects. Applying this method to amorphous silicon on glass, we show that the surface defective layer differs from bulk amorphous silicon in terms of light soaking.
Název v anglickém jazyce
Thin-film limit formalism applied to surface defect absorption
Popis výsledku anglicky
The thin-film limit is derived by a nonconventional approach and equations for transmittance, reflectance and absorptance are presented in highly versatile and accurate form. In the thin-film limit the optical properties do not depend on the absorption coefficient, thickness and refractive index individually, but only on their product. We show that this formalism is applicable to the problem of ultrathin defective layer e.g. on a top of a layer of amorphous silicon. We develop a new method of direct evaluation of the surface defective layer and the bulk defects. Applying this method to amorphous silicon on glass, we show that the surface defective layer differs from bulk amorphous silicon in terms of light soaking.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BH - Optika, masery a lasery
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2014
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Optics Express
ISSN
1094-4087
e-ISSN
—
Svazek periodika
22
Číslo periodika v rámci svazku
25
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
7
Strana od-do
31466-31472
Kód UT WoS článku
000346368800141
EID výsledku v databázi Scopus
—