Silver catalysed nanoscale silicon etching in water vapour

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F14%3A00484819" target="_blank" >RIV/68378271:_____/14:00484819 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Silver catalysed nanoscale silicon etching in water vapour

Popis výsledku v původním jazyce

N+-doped silicon substrates were etched by water vapour under the silver nanoparticles acting as a catalyst. Thin silver layer was deposited on two silicon wafers, where one of them was thermally annealed in nitrogen to create silver nanoparticles. Subsequently, both samples were annealed in water vapour and afterwards analysed by Scanning Electron Microscope. The images have shown that the annealed silver nanoparticles burrowed into the silicon substrate in the case of both samples. This new method of silicon etching introduces an alternative way of manufacturing nanohole arrays in silicon substrates.n

Název v anglickém jazyce

Silver catalysed nanoscale silicon etching in water vapour

Popis výsledku anglicky

N+-doped silicon substrates were etched by water vapour under the silver nanoparticles acting as a catalyst. Thin silver layer was deposited on two silicon wafers, where one of them was thermally annealed in nitrogen to create silver nanoparticles. Subsequently, both samples were annealed in water vapour and afterwards analysed by Scanning Electron Microscope. The images have shown that the annealed silver nanoparticles burrowed into the silicon substrate in the case of both samples. This new method of silicon etching introduces an alternative way of manufacturing nanohole arrays in silicon substrates.n

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

—

OECD FORD obor

21001 - Nano-materials (production and properties)

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2014

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

NANOCON 2014. 6th International conference proceedings

ISBN

978-80-87294-55-0

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

5

Strana od-do

21-24

Název nakladatele

TANGER

Místo vydání

Ostrava

Místo konání akce

Brno

Datum konání akce

5. 11. 2014

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

000350636300002