Influence of diamond CVD growth conditions and interlayer material on diamond/GaN interface
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F15%3A00450412" target="_blank" >RIV/68378271:_____/15:00450412 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/MSF.821-823.982" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/MSF.821-823.982</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/MSF.821-823.982" target="_blank" >10.4028/www.scientific.net/MSF.821-823.982</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Influence of diamond CVD growth conditions and interlayer material on diamond/GaN interface
Popis výsledku v původním jazyce
In this study we present the diamond deposition on AlGaN/GaN substrates focusing on the quality of the diamond/GaN interface. The growth of diamond films was performed using microwave chemical vapour deposition system in different gas mixtures: standardCH4/H2 (at low and high ratio of CH4 to H2) and addition of CO2 to CH4/H2 gas chemistry. The diamond films were grown directly on GaN films either without or with thin interlayer. As interlayer, 100 nm thick Si3N4 was used. Surprisingly, in the case of standard CH4/H2 gas mixture, no diamond film was observed on the GaN with SiNx interlayer, while adding of CO2 resulted in diamond film formation on both samples with and without SiNx interlayer. Moreover, adding of CO2 led to higher growth rate. The morphology of diamond films and the quality of the diamond/GaN interface was investigated from the cross-section images by SEM and the chemical character (i.e. sp3 versus sp2 carbon bonds) was measured by Raman spectroscopy.
Název v anglickém jazyce
Influence of diamond CVD growth conditions and interlayer material on diamond/GaN interface
Popis výsledku anglicky
In this study we present the diamond deposition on AlGaN/GaN substrates focusing on the quality of the diamond/GaN interface. The growth of diamond films was performed using microwave chemical vapour deposition system in different gas mixtures: standardCH4/H2 (at low and high ratio of CH4 to H2) and addition of CO2 to CH4/H2 gas chemistry. The diamond films were grown directly on GaN films either without or with thin interlayer. As interlayer, 100 nm thick Si3N4 was used. Surprisingly, in the case of standard CH4/H2 gas mixture, no diamond film was observed on the GaN with SiNx interlayer, while adding of CO2 resulted in diamond film formation on both samples with and without SiNx interlayer. Moreover, adding of CO2 led to higher growth rate. The morphology of diamond films and the quality of the diamond/GaN interface was investigated from the cross-section images by SEM and the chemical character (i.e. sp3 versus sp2 carbon bonds) was measured by Raman spectroscopy.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GP14-16549P" target="_blank" >GP14-16549P: Ladění elektrických vlastností hybridních struktur diamantu a galium nitridu řízenou optimalizací vnitřních pnutí</a><br>
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2015
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Silicon Carbide and Related Materials 2014
ISBN
978-3-03835-478-9
ISSN
1662-9752
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
982-985
Název nakladatele
Trans Tech Publications
Místo vydání
Pfaffikon
Místo konání akce
Grenoble
Datum konání akce
21. 9. 2014
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—