Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

MOVPE growth of InGaN/GaN MQW nitride scintillator structure

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F17%3A00479290" target="_blank" >RIV/68378271:_____/17:00479290 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    MOVPE growth of InGaN/GaN MQW nitride scintillator structure

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Fast scintillators with decay time of few nanoseconds are necessary for scanning electron microscopes in inspection machines in electronic industry. Serious morphological problem of the InGaN/GaN MQWs is formation of V-pits. These V-pits originate in InGaN QWs and they are created due to dislocations. InGaN/GaN structures with a different number of QWs and different thickness of GaN covering layers were grown, measured by AFM and their photoluminescence (PL) properties were compared. V-pit size (depth and diameter) depends on the total thickness of InGaN layers and on the growth rate, not on the capping layer thickness. Fast exciton QW PL can be increased by the thickness of GaN capping layer, higher In content and lower growth rate of the capping layer.n

  • Název v anglickém jazyce

    MOVPE growth of InGaN/GaN MQW nitride scintillator structure

  • Popis výsledku anglicky

    Fast scintillators with decay time of few nanoseconds are necessary for scanning electron microscopes in inspection machines in electronic industry. Serious morphological problem of the InGaN/GaN MQWs is formation of V-pits. These V-pits originate in InGaN QWs and they are created due to dislocations. InGaN/GaN structures with a different number of QWs and different thickness of GaN covering layers were grown, measured by AFM and their photoluminescence (PL) properties were compared. V-pit size (depth and diameter) depends on the total thickness of InGaN layers and on the growth rate, not on the capping layer thickness. Fast exciton QW PL can be increased by the thickness of GaN capping layer, higher In content and lower growth rate of the capping layer.n

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2017

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů