Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Deposition and forming of nanoparticles on the hydrogenated silicon thin films

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F17%3A00483632" target="_blank" >RIV/68378271:_____/17:00483632 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/67985858:_____/17:00483632

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Deposition and forming of nanoparticles on the hydrogenated silicon thin films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Thin films prepared by deposition of nanoparticles on the surface of hydrogenated silicon were studied for optoelectronic applications. Three techniques were used to prepare the nanoparticles – high vacuum evaporation resp. MBE and ArF laser ablation. Broad range of deposition conditions (e.g. precursor pressure, temperature and laser fluence) was studied. Interesting and utilizable optoelectronic properties were observed at multilayered films composed of different nanoparticles. Research was focused on preparation of magnesium silicide, calcium silicide, germanium and tin nanoparticles. The nanoparticles were deposited immediately after deposition of the hydrogenated silicon layer by plasma enhanced CVD without exposing the underlying layer to ambient air. The deposited material was characterized by means of Raman and photoelectron spectroscopy techniques. Transmission, scanning and atomic force microscopies were used for more detailed description of the prepared layers.

  • Název v anglickém jazyce

    Deposition and forming of nanoparticles on the hydrogenated silicon thin films

  • Popis výsledku anglicky

    Thin films prepared by deposition of nanoparticles on the surface of hydrogenated silicon were studied for optoelectronic applications. Three techniques were used to prepare the nanoparticles – high vacuum evaporation resp. MBE and ArF laser ablation. Broad range of deposition conditions (e.g. precursor pressure, temperature and laser fluence) was studied. Interesting and utilizable optoelectronic properties were observed at multilayered films composed of different nanoparticles. Research was focused on preparation of magnesium silicide, calcium silicide, germanium and tin nanoparticles. The nanoparticles were deposited immediately after deposition of the hydrogenated silicon layer by plasma enhanced CVD without exposing the underlying layer to ambient air. The deposited material was characterized by means of Raman and photoelectron spectroscopy techniques. Transmission, scanning and atomic force microscopies were used for more detailed description of the prepared layers.

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2017

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů