Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Germanium and tin nanoparticles encapsulated in amorphous silicon matrix for optoelectronic applications

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F18%3A00540849" target="_blank" >RIV/68378271:_____/18:00540849 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Germanium and tin nanoparticles encapsulated in amorphous silicon matrix for optoelectronic applications

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) was combined with in situ deposition of Ge and Sn thin film by evaporation technique at surface temperature about 220°C to form tin nanoparticles (Ge or Sn NPs) on the surface of hydrogenated silicon thin films. Formation of NPs was additionally stimulated by hydrogen plasma treatment through a low pressure hydrogen glow discharge. Characterization of the prepared structures was performed by scanning electron microscopy (SEM), PIN diode structures with and without the embedded Ge or Sn NPs were characterized of I-V characteristics.

  • Název v anglickém jazyce

    Germanium and tin nanoparticles encapsulated in amorphous silicon matrix for optoelectronic applications

  • Popis výsledku anglicky

    The plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) was combined with in situ deposition of Ge and Sn thin film by evaporation technique at surface temperature about 220°C to form tin nanoparticles (Ge or Sn NPs) on the surface of hydrogenated silicon thin films. Formation of NPs was additionally stimulated by hydrogen plasma treatment through a low pressure hydrogen glow discharge. Characterization of the prepared structures was performed by scanning electron microscopy (SEM), PIN diode structures with and without the embedded Ge or Sn NPs were characterized of I-V characteristics.

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GC16-10429J" target="_blank" >GC16-10429J: Optické, elektrické a magnetické vlastnosti ZnO nanostruktur</a><br>

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2018

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů