Pressure dependence of singly and doubly charged ion formation in a HiPIMS discharge
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F19%3A00505018" target="_blank" >RIV/68378271:_____/19:00505018 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/60076658:12310/19:43899148
Výsledek na webu
<a href="https://doi.org/10.1063/1.5055356" target="_blank" >https://doi.org/10.1063/1.5055356</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1063/1.5055356" target="_blank" >10.1063/1.5055356</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Pressure dependence of singly and doubly charged ion formation in a HiPIMS discharge
Popis výsledku v původním jazyce
Generation of singly charged Ar+ and Ti+, doubly charged Ar2+ and Ti2+, and of Ar2+ and Ti2+ dimer ions in a high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) discharge with a Ti cathode was investigated. Energy-resolved mass spectrometry was employed. The argon gas pressures varied between 0.5 and 2.0 Pa. Energy spectra of monomer ions are composed of low- and high-energy components. The energetic position of the high-energy component is approximately twice as large for doubly charged ions compared to singly charged ions. Intensities of Ar2+ and Ti2+ dimer ions are considerably smaller during HiPIMS compared to dc magnetron sputtering. compared to dc magnetron sputtering. Published under license by AIP Publishing.
Název v anglickém jazyce
Pressure dependence of singly and doubly charged ion formation in a HiPIMS discharge
Popis výsledku anglicky
Generation of singly charged Ar+ and Ti+, doubly charged Ar2+ and Ti2+, and of Ar2+ and Ti2+ dimer ions in a high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) discharge with a Ti cathode was investigated. Energy-resolved mass spectrometry was employed. The argon gas pressures varied between 0.5 and 2.0 Pa. Energy spectra of monomer ions are composed of low- and high-energy components. The energetic position of the high-energy component is approximately twice as large for doubly charged ions compared to singly charged ions. Intensities of Ar2+ and Ti2+ dimer ions are considerably smaller during HiPIMS compared to dc magnetron sputtering. compared to dc magnetron sputtering. Published under license by AIP Publishing.
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2019
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Journal of Applied Physics
ISSN
0021-8979
e-ISSN
—
Svazek periodika
125
Číslo periodika v rámci svazku
1
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
7
Strana od-do
1-7
Kód UT WoS článku
000455350200006
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-85059577955