Modified high frequency probe approach for diagnostics of highly reactive plasma
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F19%3A00518124" target="_blank" >RIV/68378271:_____/19:00518124 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://doi.org/10.1088/1361-6595/ab506c" target="_blank" >https://doi.org/10.1088/1361-6595/ab506c</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1088/1361-6595/ab506c" target="_blank" >10.1088/1361-6595/ab506c</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Modified high frequency probe approach for diagnostics of highly reactive plasma
Popis výsledku v původním jazyce
The paper introduces a modified approach of time resolved in situ diagnostics of highly reactive discharges (C2H2 in our case) usually used for a deposition process of various non-conductive thin films. Reactive plasma could create an insulating film onto inserted diagnostic tools, which distorts measured data and makes their processing unreliable, a typical problem of Langmuir probe measurements. The proposed approach utilizes a so-called radiofrequency (rf) Sobolewski probe for ion flux measurement which is further modified to also obtain the electron temperature in some cases and the ion density. In this work, we introduce the procedure where measured rf probe characteristics are transformed towards I–V curves of the plasma sheath with subtracted capacitive current.
Název v anglickém jazyce
Modified high frequency probe approach for diagnostics of highly reactive plasma
Popis výsledku anglicky
The paper introduces a modified approach of time resolved in situ diagnostics of highly reactive discharges (C2H2 in our case) usually used for a deposition process of various non-conductive thin films. Reactive plasma could create an insulating film onto inserted diagnostic tools, which distorts measured data and makes their processing unreliable, a typical problem of Langmuir probe measurements. The proposed approach utilizes a so-called radiofrequency (rf) Sobolewski probe for ion flux measurement which is further modified to also obtain the electron temperature in some cases and the ion density. In this work, we introduce the procedure where measured rf probe characteristics are transformed towards I–V curves of the plasma sheath with subtracted capacitive current.
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2019
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Plasma Sources Science & Technology
ISSN
1361-6595
e-ISSN
—
Svazek periodika
28
Číslo periodika v rámci svazku
11
Stát vydavatele periodika
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
Počet stran výsledku
10
Strana od-do
1-10
Kód UT WoS článku
000499812800001
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-85080866046