Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Plasma diagnostics in reactive high-power impulse magnetron sputtering system working in Ar + H2S gas mixture

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F20%3A00533973" target="_blank" >RIV/68378271:_____/20:00533973 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/00216208:11320/20:10413958

  • Výsledek na webu

    <a href="http://hdl.handle.net/11104/0312196" target="_blank" >http://hdl.handle.net/11104/0312196</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.3390/coatings10030246" target="_blank" >10.3390/coatings10030246</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Plasma diagnostics in reactive high-power impulse magnetron sputtering system working in Ar + H2S gas mixture

  • Popis výsledku v původním jazyce

    A reactive high-power impulse magnetron sputtering system (HiPIMS) working in Ar + H2S gas mixture was investigated as a source for the deposition of iron sulfide thin films. As a sputtering material, a pure Fe target was used. Plasma parameters in this system were investigated by a time-resolved Langmuir probe, radio-frequency (RF) ion flux probe, quartz crystal monitor modified for measurement of the ionized fraction of depositing particles, and by optical emission spectroscopy.

  • Název v anglickém jazyce

    Plasma diagnostics in reactive high-power impulse magnetron sputtering system working in Ar + H2S gas mixture

  • Popis výsledku anglicky

    A reactive high-power impulse magnetron sputtering system (HiPIMS) working in Ar + H2S gas mixture was investigated as a source for the deposition of iron sulfide thin films. As a sputtering material, a pure Fe target was used. Plasma parameters in this system were investigated by a time-resolved Langmuir probe, radio-frequency (RF) ion flux probe, quartz crystal monitor modified for measurement of the ionized fraction of depositing particles, and by optical emission spectroscopy.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20506 - Coating and films

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2020

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Coatings

  • ISSN

    2079-6412

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    10

  • Číslo periodika v rámci svazku

    3

  • Stát vydavatele periodika

    CH - Švýcarská konfederace

  • Počet stran výsledku

    17

  • Strana od-do

    1-17

  • Kód UT WoS článku

    000524211800051

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-85083055184