Correlation between crystallization and oxidation process of ScN films exposed to air
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F20%3A00538073" target="_blank" >RIV/68378271:_____/20:00538073 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/00216208:11320/20:10411151
Výsledek na webu
<a href="https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2020.145968" target="_blank" >https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2020.145968</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2020.145968" target="_blank" >10.1016/j.apsusc.2020.145968</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Correlation between crystallization and oxidation process of ScN films exposed to air
Popis výsledku v původním jazyce
Oxidation and hydrolysis are two spontaneous reactions occurring when scandium nitride (ScN) is exposed to air (oxygen and humidity). In order to evaluate the detrimental effect of the oxidation on functional properties of the material, ScN films were prepared under ultrahigh vacuum conditions at 700 °C onto two different substrates, crystalline MgO(0 0 1) and amorphous fused silica. X-ray Photoelectron Spectroscopy analysis was performed to study the oxidation reactions. The study also employed vacuum transferred pristine samples. Crystalline quality and oxidation resistance were found to be strongly correlated. Degradation of electrical and optical properties was observed for polycristalline films prepared on fused silica.
Název v anglickém jazyce
Correlation between crystallization and oxidation process of ScN films exposed to air
Popis výsledku anglicky
Oxidation and hydrolysis are two spontaneous reactions occurring when scandium nitride (ScN) is exposed to air (oxygen and humidity). In order to evaluate the detrimental effect of the oxidation on functional properties of the material, ScN films were prepared under ultrahigh vacuum conditions at 700 °C onto two different substrates, crystalline MgO(0 0 1) and amorphous fused silica. X-ray Photoelectron Spectroscopy analysis was performed to study the oxidation reactions. The study also employed vacuum transferred pristine samples. Crystalline quality and oxidation resistance were found to be strongly correlated. Degradation of electrical and optical properties was observed for polycristalline films prepared on fused silica.
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2020
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Applied Surface Science
ISSN
0169-4332
e-ISSN
—
Svazek periodika
515
Číslo periodika v rámci svazku
Jun
Stát vydavatele periodika
NL - Nizozemsko
Počet stran výsledku
11
Strana od-do
1-11
Kód UT WoS článku
000525637300023
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-85081121190