Optical anisotropy of glancing angle deposited thin films on nano-patterned substrates

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F22%3A00566321" target="_blank" >RIV/68378271:_____/22:00566321 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="https://hdl.handle.net/11104/0337688" target="_blank" >https://hdl.handle.net/11104/0337688</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1364/OME.451669" target="_blank" >10.1364/OME.451669</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Optical anisotropy of glancing angle deposited thin films on nano-patterned substrates

Popis výsledku v původním jazyce

This study has demonstrated that 3D columnar micro-films/coatings can be deposited over pre-patterned surfaces with sub-micrometer periodic patterns. Four-angle polarisation analysis of thin (0.4 − 1∼µm) Si and SiO2 films, evaporated via glancing angle deposition (GLAD) at 70° to the normal, was carried out in reflection mode using synchrotron infrared microspectroscopy at the Australian Synchrotron. The angular dependence of absorbance followed A(θ) ∝ cos 2 θ, confirmed for Si substrates patterned by electron beam lithography and plasma etching, which were used to make checkerboard patterns of Λ = 0.4∼µm period on Si. Retardance control by birefringence of a patterned SiO2 substrate coated by columnar SiO2 is promising for UV-visible applications due to the use of the same material to endow polarisation control.

Název v anglickém jazyce

Optical anisotropy of glancing angle deposited thin films on nano-patterned substrates

Popis výsledku anglicky

This study has demonstrated that 3D columnar micro-films/coatings can be deposited over pre-patterned surfaces with sub-micrometer periodic patterns. Four-angle polarisation analysis of thin (0.4 − 1∼µm) Si and SiO2 films, evaporated via glancing angle deposition (GLAD) at 70° to the normal, was carried out in reflection mode using synchrotron infrared microspectroscopy at the Australian Synchrotron. The angular dependence of absorbance followed A(θ) ∝ cos 2 θ, confirmed for Si substrates patterned by electron beam lithography and plasma etching, which were used to make checkerboard patterns of Λ = 0.4∼µm period on Si. Retardance control by birefringence of a patterned SiO2 substrate coated by columnar SiO2 is promising for UV-visible applications due to the use of the same material to endow polarisation control.

Druh

J_imp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

CEP obor

—

OECD FORD obor

10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)

Projekt

—

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2022

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Optical Materials Express

ISSN

2159-3930

e-ISSN

—

Svazek periodika

12

Číslo periodika v rámci svazku

3

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

10

Strana od-do

1281-1290

Kód UT WoS článku

000764503700007

EID výsledku v databázi Scopus

2-s2.0-85125651178