Vliv úhlu dopadu světla na odrazivost dielektrické tenké vrstvy s použitím přibližných vztahů

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21110%2F24%3A00377741" target="_blank" >RIV/68407700:21110/24:00377741 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://jmo.fzu.cz/" target="_blank" >https://jmo.fzu.cz/</a>
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Vliv úhlu dopadu světla na odrazivost dielektrické tenké vrstvy s použitím přibližných vztahů
Popis výsledku v původním jazyce
V článku jsou odvozeny přibližné vztahy, které umožňují vyjádřit závislost charakteristické matice tenké homogenní izotropní dielektrické vrstvy na úhlu lomu světla ve vrstvě pomocí polynomiální aproximace. Je ukázán výpočet odrazivosti s pomocí odvozených přibližných vztahů a výsledky jsou porovnány s přesným výpočtem na příkladu dvojnásobné antireflexní vrstvy, pro níž platí, že aproximativní vztahy jsou dostatečně přesné pro úhly dopadu světla menší než 40°
Název v anglickém jazyce
Effect of angle of incidence of light on reflectance of dielectric thin film using approximate relations
Popis výsledku anglicky
Approximate relations are derived that allow to express the dependence of the characteristic matrix of a homogeneous isotropic dielectric thin film on the angle of refraction of light in the film using a polynomial approximation. The calculation of the reflectance with the help of the derived approximate relations is shown and the results are compared with the exact calculation using the example of a double antireflection layer, for which the approximate relations are sufficiently accurate even for relatively large angles of light incidence on the layers (ϑ0 < 40°).

Rok uplatnění
2024
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)