Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Thin Films on the Basis of Chromium and Their Selected Properties

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21220%2F04%3A00104398" target="_blank" >RIV/68407700:21220/04:00104398 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Thin Films on the Basis of Chromium and Their Selected Properties

  • Popis výsledku v původním jazyce

    From chromium based layers there were selected chromium oxide and chromium nitride layers. Metal organic chemical vapour deposition methods of layer preparation were used. The oxide layers were prepared from acetylacetonate of chromium. The nitride layers were prepared from the mixture of bis(benzene)chromium and ammonia. The temperature of deposition was carried out in the temperature range 350-6500C. The oxide layers prepared at the temperatures below 4500C were amorphous and the layers prepared at the temperature 5500C and above were generally polycrystalline. The hardness of the deposited chromium oxide layers on silicon substrates was 18-25 GPa. The hardness of the deposited chromium nitride layers on silicon substrates was 15-20GPa.

  • Název v anglickém jazyce

    Thin Films on the Basis of Chromium and Their Selected Properties

  • Popis výsledku anglicky

    From chromium based layers there were selected chromium oxide and chromium nitride layers. Metal organic chemical vapour deposition methods of layer preparation were used. The oxide layers were prepared from acetylacetonate of chromium. The nitride layers were prepared from the mixture of bis(benzene)chromium and ammonia. The temperature of deposition was carried out in the temperature range 350-6500C. The oxide layers prepared at the temperatures below 4500C were amorphous and the layers prepared at the temperature 5500C and above were generally polycrystalline. The hardness of the deposited chromium oxide layers on silicon substrates was 18-25 GPa. The hardness of the deposited chromium nitride layers on silicon substrates was 15-20GPa.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JG - Hutnictví, kovové materiály

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2004

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Proceedings of the 11th Nordic Symposium on Tribology NORDTRIB 2004

  • ISBN

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    7

  • Strana od-do

  • Název nakladatele

    Norwegian University of Science and Technology

  • Místo vydání

    Trondheim

  • Místo konání akce

    Tromso - Harstad

  • Datum konání akce

    1. 6. 2004

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku