Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Influence of the target composition on reactively sputtered titanium oxide films

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21230%2F09%3A00156659" target="_blank" >RIV/68407700:21230/09:00156659 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Influence of the target composition on reactively sputtered titanium oxide films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Titanium dioxide thin films have many interesting properties and are used in various applications. High refractive index of titania makes it attractive for the glass coating industry, where it is used in low-emission and antireflective coatings. Magnetron sputtering is the most common deposition technique for large area coatings. It has been shown previously that high rate can be achieved using substoichiometric targets TiOx. This work deals with reactive magnetron sputtering of titanium oxide films from targets of different composition. The DC deposition process with targets of different oxygen content has been investigated. The deposition rate and hysteresis behaviour is reported. The elemental compositions and structures of deposited films were evaluated by means of X-ray photoelectron spectroscopy, elastic recoil detection analysis and X-ray diffraction.

  • Název v anglickém jazyce

    Influence of the target composition on reactively sputtered titanium oxide films

  • Popis výsledku anglicky

    Titanium dioxide thin films have many interesting properties and are used in various applications. High refractive index of titania makes it attractive for the glass coating industry, where it is used in low-emission and antireflective coatings. Magnetron sputtering is the most common deposition technique for large area coatings. It has been shown previously that high rate can be achieved using substoichiometric targets TiOx. This work deals with reactive magnetron sputtering of titanium oxide films from targets of different composition. The DC deposition process with targets of different oxygen content has been investigated. The deposition rate and hysteresis behaviour is reported. The elemental compositions and structures of deposited films were evaluated by means of X-ray photoelectron spectroscopy, elastic recoil detection analysis and X-ray diffraction.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    JJ - Ostatní materiály

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GP106%2F07%2FP014" target="_blank" >GP106/07/P014: Samomazné vrstvy na bázi dichalkogenidů přechodových kovů</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2009

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Vacuum

  • ISSN

    0042-207X

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    83

  • Číslo periodika v rámci svazku

    10

  • Stát vydavatele periodika

    GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

    000267505100022

  • EID výsledku v databázi Scopus