Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Doping Compensation for Increased Robustness of Fast Recovery Silicon Diodes

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21230%2F10%3A00160716" target="_blank" >RIV/68407700:21230/10:00160716 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Doping Compensation for Increased Robustness of Fast Recovery Silicon Diodes

  • Popis výsledku v původním jazyce

    High-power diodes with the radiation enhanced diffusion (RED) of Pd are shown to have much higher ruggedness during the reverse recovery compared to that of the Pt. Anode doping profiles measured by spreading resistance technique after a 10 MeV He implantation with subsequent annealing between 500 and 800 degC reveal different compensation effects between the Pd and Pt. The in-diffusing Pd converts the n-type background doping concentration of ND = 3 .1013 cm-3 in the position of radiation defects to that of a p-type with about one order higher concentration. The created low-doped p-layer significantly increases ruggedness of diodes during reverse recovery.

  • Název v anglickém jazyce

    Doping Compensation for Increased Robustness of Fast Recovery Silicon Diodes

  • Popis výsledku anglicky

    High-power diodes with the radiation enhanced diffusion (RED) of Pd are shown to have much higher ruggedness during the reverse recovery compared to that of the Pt. Anode doping profiles measured by spreading resistance technique after a 10 MeV He implantation with subsequent annealing between 500 and 800 degC reveal different compensation effects between the Pd and Pt. The in-diffusing Pd converts the n-type background doping concentration of ND = 3 .1013 cm-3 in the position of radiation defects to that of a p-type with about one order higher concentration. The created low-doped p-layer significantly increases ruggedness of diodes during reverse recovery.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/LC06041" target="_blank" >LC06041: Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2010

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Microelectronics Reliability

  • ISSN

    0026-2714

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    50

  • Číslo periodika v rámci svazku

    1

  • Stát vydavatele periodika

    NL - Nizozemsko

  • Počet stran výsledku

    7

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

    000274610400004

  • EID výsledku v databázi Scopus