AFM LOCAL ANODIC OXIDATION ON GRAPHENE
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21230%2F12%3A00200400" target="_blank" >RIV/68407700:21230/12:00200400 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://www.nanocon.cz/cz/" target="_blank" >http://www.nanocon.cz/cz/</a>
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
AFM LOCAL ANODIC OXIDATION ON GRAPHENE
Popis výsledku v původním jazyce
Graphene is extensively studied attractive material for its remarkable electronic and mechanical properties. Local anodic oxidation (LAO) by means of atomic force microscope (AFM) with a conductive tip is a method used for device patterning in the nanometer scale at laboratory conditions. It represents a clean alternative to up-to-date nano-lithographic techniques as electron beam lithography (EBL) and nanoimprint lithography (NIL). Oxidation reaction between the tip and a conductive substrate creates an oxide line, which acts as a potential barrier. It enables to make narrow constrictions of 20 nm in width. We applied LAO on single-layer graphene CVD grown on copper foil and graphene grown on SiC prepared by high temperature annealing. Under optimum conditions for LAO the graphene oxide is created. The thickness of the oxide line depends on various parameters e.g. a tip bias, speed of the tip and ambient relative humidity.
Název v anglickém jazyce
AFM LOCAL ANODIC OXIDATION ON GRAPHENE
Popis výsledku anglicky
Graphene is extensively studied attractive material for its remarkable electronic and mechanical properties. Local anodic oxidation (LAO) by means of atomic force microscope (AFM) with a conductive tip is a method used for device patterning in the nanometer scale at laboratory conditions. It represents a clean alternative to up-to-date nano-lithographic techniques as electron beam lithography (EBL) and nanoimprint lithography (NIL). Oxidation reaction between the tip and a conductive substrate creates an oxide line, which acts as a potential barrier. It enables to make narrow constrictions of 20 nm in width. We applied LAO on single-layer graphene CVD grown on copper foil and graphene grown on SiC prepared by high temperature annealing. Under optimum conditions for LAO the graphene oxide is created. The thickness of the oxide line depends on various parameters e.g. a tip bias, speed of the tip and ambient relative humidity.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GAP108%2F11%2F0894" target="_blank" >GAP108/11/0894: Růst a zpracování gafenových vrstev na karbidu křemíku</a><br>
Návaznosti
S - Specificky vyzkum na vysokych skolach
Ostatní
Rok uplatnění
2012
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Nanocon 2012
ISBN
978-80-87249-32-1
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
—
Název nakladatele
TANGER, spol.s r.o
Místo vydání
Ostrava
Místo konání akce
Brno
Datum konání akce
23. 10. 2012
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—