2D posuvná lavice pro litografický osvit

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21230%2F13%3A00210005" target="_blank" >RIV/68407700:21230/13:00210005 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

2D posuvná lavice pro litografický osvit

Popis výsledku v původním jazyce

Posuvná lavice slouží k přesnému nastavení substrátu v rovině při osvitu během litografické výroby struktur. Je využitelná pro osvit na gelovou masku nebo pro přímý osvit na finální substrát. Funkční vzorek vzniknul zejména pro přípravu jednoduchých mikroelektromechanických struktur ve funkci senzorů plynů (SAW struktury, nanášení aktivní substancí pro vodivostní senzory, dostavování a trimování mikromechanických struktur). Osvit probíhá pomocí objektivu a zvětšené předlohy na dané vlnové délce (tento osvit není součástí funkčního vzorku). Funkční vzorek umožňuje replikaci jedné struktury na větší plochu masky (substrátu) a automatizované nastavení intenzity a délky osvitu. Lavici je rovněž možno využít pro přímé vykreslování jednoduchých struktur do fotorezistu. Teoretické minimální rozlišení lavice v obou směrech je 3,5 ?m (dáno stoupáním závitové tyče a počtem kroků motoru na otáčku), praktické rozlišení je 300 ?m (dáno tuhostí celé konstrukce a rovinností vodicích tyčí) a opakovate

Název v anglickém jazyce

2D sliding bench for lithographic exposure

Popis výsledku anglicky

Sliding bench can be used for precise adjustment in the plane during the lithographical exposure of the substrate. It is applicable for exposure on the gel mask or direct exposure to the final substrate. It was developed mainly for preparing of the simple microelectromechanical structures for the gas sensors (SAW structures, application of active substances for conductivity sensors, micromechanical structures adjustment and trimming). Light exposure is via the lens and enlarged pattern for a given wavelength (these optical devices are not a part of the sample). Functional sample allows replication of one structure over a larger area of the mask (substrate) and automated intensity and duration setting. The bench can also be used for direct writing of simple structures into the photoresist. Theoretical minimal resolution of benches in both directions is 3.5 microns (given by pitch threaded rod and the number of motor steps per revolution), the practical resolution is 300 ?m (due to the s

Druh

G_funk - Funkční vzorek

CEP obor

JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/VG20102015015" target="_blank" >VG20102015015: Miniaturní inteligentní analyzační systém koncentrací plynů a škodlivých látek, zejména toxických</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2013

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Interní identifikační kód produktu

2D_Lavice_2013

Číselná identifikace

—

Technické parametry

Homtnost do 10 kg, rozměry cca 33 x 35 x 16 cm, Minimální rozlišení posuvu v obou směrech je 3,5 um, praktické rozlišení je 300 ?m, opakovatelnost lepší než 10 um. Funkční vzorek využívá ČVUT, kontakt: A.Bouřa, FEL ČVUT, bouraa@fel.cvut.cz,224352335.

Ekonomické parametry

Celkové náklady na výrobu jsou cca 10 000 kč (materiál cca 5000 kč, frézování a sestavenícca 5000 kč)

Kategorie aplik. výsledku dle nákladů

—

IČO vlastníka výsledku

68407700

Název vlastníka

ČVUT FEL

Stát vlastníka

CZ - Česká republika

Druh možnosti využití

N - Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)

Požadavek na licenční poplatek

—

Adresa www stránky s výsledkem

—