2D sliding bench for lithographic exposure

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21230%2F14%3A00222312" target="_blank" >RIV/68407700:21230/14:00222312 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

2D sliding bench for lithographic exposure

Popis výsledku v původním jazyce

The paper describes construction and applicability of the two dimensional sliding bench. It can be used for precise adjustment in the plane during the lithographical exposure of the substrate. It is applicable for exposure on the gel mask or direct exposure to the final substrate. It was developed mainly for preparing of the simple microelectromechanical structures for the gas sensors (SAW structures, application of active substances for conductivity sensors, micromechanical structures adjustment and trimming). Light exposure is provided via the lens and enlarged pattern for a given wavelength (these optical components are not a part of the bench). The bench allows replication of one structure over a larger area of the mask (substrate) and automated intensity setting and timing. The bench can also be used for direct writing of simple structures into the photo-resist.

Název v anglickém jazyce

2D sliding bench for lithographic exposure

Popis výsledku anglicky

The paper describes construction and applicability of the two dimensional sliding bench. It can be used for precise adjustment in the plane during the lithographical exposure of the substrate. It is applicable for exposure on the gel mask or direct exposure to the final substrate. It was developed mainly for preparing of the simple microelectromechanical structures for the gas sensors (SAW structures, application of active substances for conductivity sensors, micromechanical structures adjustment and trimming). Light exposure is provided via the lens and enlarged pattern for a given wavelength (these optical components are not a part of the bench). The bench allows replication of one structure over a larger area of the mask (substrate) and automated intensity setting and timing. The bench can also be used for direct writing of simple structures into the photo-resist.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/VG20102015015" target="_blank" >VG20102015015: Miniaturní inteligentní analyzační systém koncentrací plynů a škodlivých látek, zejména toxických</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2014

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Electronic Devices and Systems IMAPS CS International Conference 2014

ISBN

978-80-214-4985-5

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

5

Strana od-do

42-46

Název nakladatele

Vysoké učení technické v Brně, Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií

Místo vydání

Brno

Místo konání akce

Brno

Datum konání akce

25. 6. 2014

Typ akce podle státní příslušnosti

EUR - Evropská akce

Kód UT WoS článku

—