Alternative Method to Thin-Film Thickness Determination Using the Spectral Reflectance Measurement

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21340%2F10%3A00176477" target="_blank" >RIV/68407700:21340/10:00176477 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Alternative Method to Thin-Film Thickness Determination Using the Spectral Reflectance Measurement
Popis výsledku v původním jazyce
An alternative, precise method of the reflectance spectrum measurement of a thin film on a wafer was developed. The method simply eliminates necessity to known the reflectance spectrum of reference mirror. The method was successfully tested on a SiO2 thin film on Si substrates.
Název v anglickém jazyce
Alternative Method to Thin-Film Thickness Determination Using the Spectral Reflectance Measurement
Popis výsledku anglicky
An alternative, precise method of the reflectance spectrum measurement of a thin film on a wafer was developed. The method simply eliminates necessity to known the reflectance spectrum of reference mirror. The method was successfully tested on a SiO2 thin film on Si substrates.

Rok uplatnění
2010
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku
Proceedings of the 20th Joint Seminar on Development of Materials Science in Research and Education
ISBN
978-80-254-7237-8
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
2
Strana od-do
—
Název nakladatele
Czechoslovak Association for Crystal Growth
Místo vydání
Prague
Místo konání akce
Bořetice
Datum konání akce
1. 9. 2010
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—

Podobné výsledky(10)