Study of crystalline thin films and nanofibers by means of the laser-plasma EUV-source based microscopy

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21460%2F13%3A00205809" target="_blank" >RIV/68407700:21460/13:00205809 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0969806X13000984" target="_blank" >http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0969806X13000984</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.radphyschem.2013.02.019" target="_blank" >10.1016/j.radphyschem.2013.02.019</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Study of crystalline thin films and nanofibers by means of the laser-plasma EUV-source based microscopy

Popis výsledku v původním jazyce

New developments in nanoscience and nanotechnology require nanometer scale resolution imaging tools and techniques such as an extreme ultraviolet (EUV) and soft X-ray (SXR) microscopy, based on Fresnel zone plates. In this paper, we report on applications of a desk-top microscopy using a laser-plasma EUV source based on a gas-puff target for studies of morphology of thin silicon membranes coated with NaCl crystals and samples composed of ZnO nanofibers.

Název v anglickém jazyce

Study of crystalline thin films and nanofibers by means of the laser-plasma EUV-source based microscopy

Popis výsledku anglicky

New developments in nanoscience and nanotechnology require nanometer scale resolution imaging tools and techniques such as an extreme ultraviolet (EUV) and soft X-ray (SXR) microscopy, based on Fresnel zone plates. In this paper, we report on applications of a desk-top microscopy using a laser-plasma EUV source based on a gas-puff target for studies of morphology of thin silicon membranes coated with NaCl crystals and samples composed of ZnO nanofibers.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Rok uplatnění

2013

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Radiation Physics and Chemistry

ISSN

0969-806X

e-ISSN

—

Svazek periodika

93

Číslo periodika v rámci svazku

—

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

5

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

000326910900011

EID výsledku v databázi Scopus

—