Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

The Combined Technological Methods for Deposition of Si:H Thin Films and Structures with Embedded NPs

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21460%2F15%3A00241266" target="_blank" >RIV/68407700:21460/15:00241266 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1166/asem.2015.1689" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1166/asem.2015.1689</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1166/asem.2015.1689" target="_blank" >10.1166/asem.2015.1689</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    The Combined Technological Methods for Deposition of Si:H Thin Films and Structures with Embedded NPs

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Up to now the deposited thin film structures on the base of hydrogenated silicon (Si:H) by PECVD technique are applied in many devices. Although the quality of Si:H thin films was modified by change of technological parameters and Si:H was studied intensively for many years, the possible applications are still limited. Therefore, we study the combined methods of Si:H thin films deposition with embedded nanoparticles, modify the quality of the Si:H thin films and made them convenient for further applications, for example light emitting diodes (LEDs). Our paper is focused on technology details of deposition of PbS and Mg2Si nanoparticles embedded in a-Si matrix with the emphasis on the in situ deposition without interruption of vacuum process.

  • Název v anglickém jazyce

    The Combined Technological Methods for Deposition of Si:H Thin Films and Structures with Embedded NPs

  • Popis výsledku anglicky

    Up to now the deposited thin film structures on the base of hydrogenated silicon (Si:H) by PECVD technique are applied in many devices. Although the quality of Si:H thin films was modified by change of technological parameters and Si:H was studied intensively for many years, the possible applications are still limited. Therefore, we study the combined methods of Si:H thin films deposition with embedded nanoparticles, modify the quality of the Si:H thin films and made them convenient for further applications, for example light emitting diodes (LEDs). Our paper is focused on technology details of deposition of PbS and Mg2Si nanoparticles embedded in a-Si matrix with the emphasis on the in situ deposition without interruption of vacuum process.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    V - Vyzkumna aktivita podporovana z jinych verejnych zdroju

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2015

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Advanced Science, Engineering and Medicine

  • ISSN

    2164-6635

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    7

  • Číslo periodika v rámci svazku

    4

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

    265-269

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus