Plazmatická polymerizace fenylmethylsilanu

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F70883521%3A28110%2F05%3A63503788" target="_blank" >RIV/70883521:28110/05:63503788 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/00216305:26310/05:PU52971

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Plasma polymerisation of methylphenylsilane

Popis výsledku v původním jazyce

Microwave electron cyclotron resonance plasma afterglow chemical vapour deposition (MW ECR PA CVD) and radio frequency plasma enhanced CVD (RF PE CVD) of plasma-poly(methylphenylsilane) (p-PMPS) were examined according to plasma composition and resultingthin film properties. Direct mass spectrometry monitoring and gas chromatography and mass spectroscopy (GC MS) of cold-trapped plasma products were used. Deposited samples were measured mainly on luminescence. The low pressure MW ECR plasma creates species for layer growth by a smaller average number of inelastic collisions per origin of monomer molecule. The exploitation of monomer reaches 23% in comparison with RF plasma (5#7%) and the deposition rate is larger (1.5 nm s?1) in comparison with RF plasma (0.2 nm s?1). The inelastic collision rate is primarily more important for growing layers than the power introduced into plasma. The luminescence spectra of both MW and RF samples are compared.

Název v anglickém jazyce

Plasma polymerisation of methylphenylsilane

Popis výsledku anglicky

Microwave electron cyclotron resonance plasma afterglow chemical vapour deposition (MW ECR PA CVD) and radio frequency plasma enhanced CVD (RF PE CVD) of plasma-poly(methylphenylsilane) (p-PMPS) were examined according to plasma composition and resultingthin film properties. Direct mass spectrometry monitoring and gas chromatography and mass spectroscopy (GC MS) of cold-trapped plasma products were used. Deposited samples were measured mainly on luminescence. The low pressure MW ECR plasma creates species for layer growth by a smaller average number of inelastic collisions per origin of monomer molecule. The exploitation of monomer reaches 23% in comparison with RF plasma (5#7%) and the deposition rate is larger (1.5 nm s?1) in comparison with RF plasma (0.2 nm s?1). The inelastic collision rate is primarily more important for growing layers than the power introduced into plasma. The luminescence spectra of both MW and RF samples are compared.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

CD - Makromolekulární chemie

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2005

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Surface and Coatings Technology

ISSN

0257-8972

e-ISSN

—

Svazek periodika

200

Číslo periodika v rámci svazku

1-4

Stát vydavatele periodika

NL - Nizozemsko

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

486-489

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—