Multi-SWD plasma jet system for PECVD deposition of thin films

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F14%3A00438735" target="_blank" >RIV/68378271:_____/14:00438735 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2014.2314214" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2014.2314214</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2014.2314214" target="_blank" >10.1109/TPS.2014.2314214</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Multi-SWD plasma jet system for PECVD deposition of thin films

Popis výsledku v původním jazyce

Multiplasma jet surface-wave discharge launched by the surfatron is a promising PECVD tool for scalable deposition of various semiconductor materials. The timeresolved Langmuir probe study revealed that the plasma plume is inhomogeneous toward the substrate. In the measured interval, the electron energy and the plasma density increased with distance from the nozzle outlet. These findings allowed us to optimize the substrate position during the deposition process.

Název v anglickém jazyce

Multi-SWD plasma jet system for PECVD deposition of thin films

Popis výsledku anglicky

Multiplasma jet surface-wave discharge launched by the surfatron is a promising PECVD tool for scalable deposition of various semiconductor materials. The timeresolved Langmuir probe study revealed that the plasma plume is inhomogeneous toward the substrate. In the measured interval, the electron energy and the plasma density increased with distance from the nozzle outlet. These findings allowed us to optimize the substrate position during the deposition process.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2014

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

IEEE Transactions on Plasma Science

ISSN

0093-3813

e-ISSN

—

Svazek periodika

42

Číslo periodika v rámci svazku

10

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

2

Strana od-do

2502-2503

Kód UT WoS článku

000344548300089

EID výsledku v databázi Scopus

—